Reflectómetro para medida de espesores (Thin Film Analysis)
O sistema espectroscópico de medida de espesores e análises de capa fina, permite determinar de forma rápida e sinxela o espesor e as constantes ópticas (n e K) por espectrometría de reflectancia espectral.
Equipamento instrumental
Film Thickness Measurement System – Modelo: F20e – Fabricante:FILMETRICS
Características técnicas
- Rango espectral de traballo 390 nm-1050 nm
- Fonte de iluminación de: Haloxeno
- Estativo SS-3 incluíndo fibra óptica
- Rango medida: 15 nm a 70 micras
- Exactitude: 1 nm ó 0,2 %
- Precisión: 0.02 nm
- Tamaño anuncio: 1.5 mm
- Patrón SiO2-on-Se thickness standard: 125A, 250A, 500A, 1000A, 5000A,nand 10000A (+/-10%), 6″ wafer
- sistema inclúe, a fonte de luz, a fibra óptica, o porta mostras e o software de aplicacións listo para utilizar en contorna Windows.
- software, permite medir estruturas con varias capas, ou monocapas sobre distintos substratos.
Aplicacións
Permite medir el espesor en semiconductores, recubrimientos ópticos o materiales antireflejantes, determinando espesores de membranas en materiales lisos y translúcidos.
Requisitos das mostras
Os materiais, películas, substratos, recubrimentos deben ser lisos e o máis homoxéneos posible.
Máis información
Carmen Serra Rodríguez – Tatiana Padín Gómez – Paula Barbazán Martín
+34 986 813 882 – Fax: 986 812 135
cserra@uvigo.es – tatiana.padin@uvigo.es – pbarbazan@uvigo.es